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湿度节制是无尘车间出产必须具备的主要前提，绝对湿度是无尘车间、干净室运作进程中一个常用的环境把持条件。半导体无尘车间、洁净室中的典范的相对湿度的目的值大概掌握在30至50%的范围内，容许误差在±1%的狭小的规模内，例如光刻区或者在远紫外线处置(duv)区甚至更小而在其余处所则能够放松到±5%的范围内。
近年，在这些划定范围中坚持处理空气过程，使咱们必需承当资金和经营本钱。但是为什么值得破费这么多钱用在无尘车间、洁净室中控制相对湿度呢？情理很简略！由于相对湿度有一系列可能使洁净室总体表示降低的因素，其中包括：
1、细菌成长；
2、工作职员觉得室温舒服的范畴；
3、呈现静电荷；
4、金属腐化；
5、水汽冷凝；
6、光刻的退化；
7、吸水性。
细菌和其他生物传染(霉菌，病毒，真菌，螨虫)在相对湿度超过60%的环境中可以活泼地滋生。一些菌群在相对湿度超过30%时就可以增加。在相对湿度处于40%至60%的范围之间时，可以使细菌的影响以及呼吸道沾染降至最低。
相对湿度在40%至60%的范围同样也是人类感觉恬静的适度范围。湿渡过高会使人感到气闷，而湿度低于30%则会让人感到干燥，皮肤决裂，呼吸道不适以及感情上的不快。
高湿度实际上减小了无尘车间、洁净室表面的静电荷积累──这是大家盼望的成果。较低的湿度比拟合适电荷的积聚并成为潜在的存在损坏性的静电开释源。当相对湿度超过50%时，静电荷开端敏捷消失，然而当相对湿度小于30%时，它们可以在绝缘体或者未接地的名义上连续存在很长一段时光。
相对湿度在35%到40%之间可以作为一个令人满足的折中，半导体无尘车间、洁净室个别都应用额定的控制安装以限度静电荷的积累。
良多化学反映的速度，包含腐蚀过程，将跟着相对湿度的增高而加快。所有裸露在无尘车间、洁净室四周空气中的表面都很快地被笼罩上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反响的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。荣幸的是，一些金属，例如铝，可以与水构成一层维护型的氧化物，并禁止进一步的氧化反应；但另一种情形是，例如氧化铜，是不具备掩护才能的，因而，在高湿度的环境中，铜制表面更轻易受到腐蚀。
在相对湿度较高的环境中，稀释水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了衔接键，可以增添颗粒与硅质表面的黏附力。这种效应――凯尔文浓缩――当相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的重要力气。
到目前为止，在半导体无尘车间、洁净室中最急切需要恰当控制的是光刻胶的敏理性。因为光刻胶对相对湿度极为敏感的特征，它对相对湿度的控制范围的请求是最严厉的水准。
实际上，相对湿度跟温度对光刻胶稳固性以及准确的尺寸控制都是很要害的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的回升而迅速降落。当然，改变粘性，就会转变由固定组分涂层造成的保护膜的厚度。参考两个城市，一个实验证明，相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2a(原文如斯)。
此外，在高的相对湿度环境下，因为水分的接收，使烘烤轮回后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负面影响；较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不须要聚合改性剂，如六甲基二硅氮烷(hmds)。
总而言之半导体无尘车间、洁净室中控制相对湿度不是随便的。但是，随着时间的变更，最好回想一下常见的被广泛接收的实际的起因和基本。
文章出自：  himeju
  bioncons      womenhao

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